1D/2D nanomalzemelerin ve heteroyapıların büyütülmesi için geliştirilmiş Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) ve PECVD sistemleridir. PlasmaPro 100 Nano (eski adıyla Nanofab), 1200°C’ye kadar esnek sıcaklıklarla, yerinde katalizör aktivasyonu ve hassas proses kontrolü ile nanomalzemelerin yüksek performanslı bir şekilde büyütülmesini sağlar.

  • 1200°C’ye kadar esnek sıcaklıklarla mükemmel homojenlik
  • 700°C, 800°C veya 1200°C  seçenekleri bulunmaktadır
  • 200 mm’ye kadar numune boyutları 
  • Vakum kilidi - Hızlı numune değişimi
  • Homojen prekürsör püstkürme için Showerhead tasarımı
  • MoS2, MoSe2 ve diğer TMDC’lerin büyütülmesi için isteğe bağlı sıvı/katı kaynak dağıtım sistemi