1D/2D nanomalzemelerin ve heteroyapıların büyütülmesi için geliştirilmiş Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) ve PECVD sistemleridir. Oxford PlasmaPro 100 Nano (eski adıyla Nanofab), 1200°C’ye kadar esnek sıcaklıklarla, yerinde katalizör aktivasyonu ve hassas proses kontrolü ile nanomalzemelerin yüksek performanslı bir şekilde büyütülmesini sağlar.

• 1200°C’ye kadar esnek sıcaklıklarla mükemmel homojenlik
• 700°C, 800°C veya 1200°C  seçenekleri bulunmaktadır
• 200 mm’ye kadar numune boyutları 
• Vakum kilidi - Hızlı numune değişimi
• Homojen prekürsör püstkürme için Showerhead tasarımı
• MoS2, MoSe2 ve diğer TMDC’lerin büyütülmesi için isteğe bağlı sıvı/katı kaynak dağıtım sistemi

Daha fazla bilgi için tıklayınız.