Annealsys RTP-RTCVD System – Gelişmiş Rapid Thermal Processing ve RTCVD Çözümü

Annealsys 200mm RTP-RTCVD System (AS-Master), yarı iletken ve malzeme geliştirme uygulamaları için tasarlanmış yüksek performanslı Rapid Thermal Processing (RTP) ve Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition (RTCVD) platformudur. Araştırma ve üretim ölçekli proseslerde geniş uygulama yelpazesi sunar ve hem RTA hem de RTCVD işlemlerini tek bir sistemde gerçekleştirmeye imkân verir. (turn0search0)

Uygulama Alanları

Annealsys RTP-RTCVD System ile gerçekleştirilebilecek başlıca prosesler:

• Rapid Thermal Annealing (RTA)
• Implant annealing
• Ohmic kontak tavlama (özellikle III-V ve SiC malzemelerde)
• Rapid Thermal Oxidation (RTO)
• Rapid Thermal Nitridation (RTN)
• Dopant difüzyonu, yoğunlaştırma ve kristalizasyon
• Selenizasyon
• Rapid Thermal CVD (Si poliy, SiO₂, SiNₓ gibi yüzey kaplamalar)
• Termal polimer tavlama ve diğer ileri prosesler
  …ve benzeri kritik ısıl ve yüzey etkileşim uygulamaları.

Bu sistem, termal olarak hassas substratların işlenmesi gibi zorlu uygulamalarda bile yüksek verim ve tekrarlanabilirlik sağlar.

Teknik Özellikler - Annealsys AS-Master RTP / RTCVD Sistemi

Annealsys AS-Master, üretim uygulamaları için geliştirilmiş, yüksek performanslı bir Rapid Thermal Processing (RTP) ve Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition (RTCVD) sistemidir. Kasetten kasete (cassette-to-cassette) yükleme altyapısı sayesinde seri üretim ortamlarına tam uyum sağlarken, manuel yükleme seçeneği ile proses geliştirme çalışmalarında da esnek kullanım sunar.

AS-Master Rapid Thermal Processor; annealing, RTP ve RTCVD dahil olmak üzere geniş bir proses yelpazesini destekleyen çok yönlü bir platformdur. Yüksek sıcaklık versiyonu, 1450 °C’ye kadar çıkabilen çalışma aralığı sayesinde ileri seviye ve yeni nesil proses geliştirmeye olanak tanır.

Cold wall proses odası teknolojisi, ultra temiz ve kontaminasyondan arındırılmış bir ortam sağlayarak yüksek proses tekrarlanabilirliği sunar. Atmosfer basıncından 10⁻⁶ Torr vakuma kadar geniş basınç aralığı, gelişmiş gaz karışım kabiliyeti ve geniş sıcaklık aralığı sayesinde AS-Master; çok sayıda RTP ve RTCVD uygulaması için ideal bir çözümdür.

Sistem; load-lock ve cluster tool modül seçenekleri ile proses ortamı temizliğini en üst seviyeye taşır. Manuel yükleme ve kasetten kasete konfigürasyonları, proses geliştirmeden seri üretime kolay geçiş imkânı sağlar.

Avantajlar

• Çok yönlü proses desteği: RTA’dan RTCVD’ye kadar geniş bir uygulama yelpazesi sağlar.
• Üretim ve AR-GE uyumu: Manuel ya da üretime uygun aygıtlarla entegre çalışabilir.
• Yüksek tekrarlanabilirlik: Soğuk duvar teknolojisi sayesinde proses stabilitesi ve tekrarlanabilirlik yüksektir.
• Kontaminasyonsuz ortam: Ultra temiz proses odası tasarımı ile malzeme bütünlüğü korunur.
• Esnek entegrasyon: Loadlock ve cluster tool modülleri ile üretim hattına kolay entegrasyon.

Kullanım Alanları ve Endüstriler

Annealsys RTP-RTCVD System, aşağıdaki alanlarda güçlü performans sağlar:

• Yarı iletken üretimi ve AR-GE
• Opto-elektronik ve LED komponentleri
• Power & RF cihazlar
• Selenizasyon tabanlı güneş hücreleri
• 2D malzemeler için RTCVD uygulamaları
  …gibi ileri proses projelerinde kullanılabilir.