AS-Micro

Annealsys 3-inch RTP System – Hızlı Termal İşlem (Rapid Thermal Processing)

Ürün Tanımı

Annealsys RTP System, yarı iletken araştırma ve eğitim uygulamaları için tasarlanmış 3-inç ekonomik Rapid Thermal Processing (RTP) sistemidir. Laboratuvar ve AR-GE ortamlarında yüksek sıcaklıkta kontrollü ısıl işlemler gerçekleştirir ve çok çeşitli proses gereksinimlerini karşılar.

Uygulama Alanları

Annealsys RTP System ile gerçekleştirilebilecek başlıca uygulamalar:

• Rapid Thermal Annealing (RTA) – Hızlı termal tavlama
• Implant Annealing – İyon implantasyonu sonrası aktivasyon
• Ohmic Contact Annealing – Kontak tavlama
• Rapid Thermal Oxidation (RTO) – Oksidasyon süreçleri
• Rapid Thermal Nitridation (RTN) – Nitrürleme
• Rapid Thermal Evaporation (RTE) – Buharlaştırma
• Densification & Crystallization – Yoğunlaştırma ve kristalizasyon
• Dopant Diffusion – Dopant difüzyonu
  …ve benzeri ileri ısıl işlem uygulamaları.

Teknik Özellikler

• Çalışma sıcaklığı: Oda sıcaklığından 1250°C’ye kadar işlem kapasitesi.
• Hızlı ısıtma: 2-inç silikona kadar 250°C/s’ye varan ramp hızları.
• Proses atmosferi: Atm basınç veya vakum koşullarında çalışma.
• Gaz kontrolü: Kütle akış kontrollü gaz karışımı imkânı.
• Kontrol & otomasyon: PID kontrollü sıcaklık regülasyonu ve Windows uyumlu PC yazılımı ile tam kontrol.
• Kolay yükleme: Yatay hareketli kapı ve kuvars tepsi sayesinde numune yükleme/boşaltma kolaylığı.

Avantajlar

• Kompakt & ekonomik tasarım: Laboratuvarlar, üniversiteler ve AR-GE merkezleri için ideal.
• Geniş proses yelpazesi: Birden fazla işlem modu ve proses kombinasyonu ile esneklik sağlar.
• Hızlı ısıl çevrimler: Kısa ısınma ve soğuma süreleri ile verimliliği artırır.
• Hassas kontrol: Proses tekrarlanabilirliği ve doğruluğu yüksek sistem mimarisi.
• Vakum opsiyonları: Daha temiz ve kontrollü işlemler için yüksek vakum seçenekleri mevcuttur.

Kullanım Alanları ve Faydalar

Annealsys RTP System, özellikle yarı iletken proses geliştirme, implant tavlama, temas metalleri tavlama, hızlı oksidasyon/nitridasyon ve malzeme kristalizasyonu gibi kritik ısıl işlem uygulamalarında güçlü bir performans sunar. Kompakt tasarımı sayesinde temiz oda ve AR-GE laboratuvarlarında etkin şekilde kullanılabilir.