Annealsys DLI-CVD System – Geniş Proses Kabiliyetli İnce Film Depozisyon Çözümü

Annealsys 2-inch DLI-CVD System, Direct Liquid Injection (DLI) teknolojisini temel alan ve tek bir proses odasında çoklu süreçler gerçekleştirebilen ileri Chemical Vapor Deposition (CVD) ve Atomic Layer Deposition (ALD) sistemidir. Bu sistem, aynı zamanda Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition (RTCVD), MOCVD, RTP gibi işlemleri de destekleyerek araştırma ve geliştirme çalışmalarında ve özel uygulamalarda yüksek esneklik sağlar.

Annealsys DLI-CVD sistemleri, likit veya organometalik öncülleri doğrudan buharlaştıran DLI vaporizasyon teknolojisi ile düşük buhar basınçlı veya termal olarak kararsız kimyasalların kontrollü bir şekilde kullanılmasına imkân tanır; bu sayede nanolaminatlar ve kompleks ince film yapıları hassas biçimde üretilebilir.

Uygulama Alanları

Annealsys DLI-CVD System aşağıdaki gelişmiş termal ve depozisyon prosesleri için uygundur:

• DLI-CVD & DLI-ALD – Kimyasal buhar biriktirme ve atomik katman biriktirme
• RTCVD ve MOCVD – Termal CVD benzeri uygulamalar
• Rapid Thermal Processing (RTP) – Yarı iletken tavlama
• 2D Malzemeler – Grafen, bor nitrid (h-BN), TMD’ler gibi
• Metaller, nitrürler ve bileşik oksitler – Geniş malzeme yelpazesi
  … ve bunun gibi ileri malzeme araştırma ve geliştirme projeleri için idealdir.

Teknik Özellikler & Performans

Annealsys MC-050 – All-in-One DLI Proses Sistemi

Annealsys MC-050, doğrudan sıvı enjeksiyonlu (Direct Liquid Injection – DLI) vaporizatörleri ve kızılötesi (infrared) lamba ısıtma teknolojisi sayesinde, tek bir proses odasında çoklu proses kabiliyeti sunan benzersiz bir sistemdir. Cluster tool benzeri esnekliği, tek bir reaktör içinde sağlayarak kompakt ve verimli bir çözüm sunar.

MC-050 sistemi, 2 inç wafer işleme kapasitesine sahip olup, araştırma ve geliştirme (Ar-Ge) birimlerinin ihtiyaçlarını karşılamak üzere özel olarak geliştirilmiş bir DLI-CVD / DLI-ALD reaktörüdür.

Kızılötesi lamba fırını ile entegre çalışan DLI vaporizatörleri sayesinde, aynı proses odasında CVD, ALD, MOCVD, RTP ve RTCVD gibi farklı prosesler gerçekleştirilebilir. Bu yapı, yüksek proses esnekliği ve tekrarlanabilirlik sağlar.

Direct Liquid Injection (DLI) vaporizatörleri, öncül akışlarının son derece hassas kontrolünü mümkün kılarak, düşük buhar basınçlı ve seyreltilmiş kimyasal öncüllerin güvenle kullanılmasına olanak tanır. Öncil buhar akışlarının hızlı anahtarlanması ve by-pass valf yapısı, nanolaminat biriktirme süreçlerinde mükemmel arayüz kontrolü sağlar.

Annealsys MC-050, katı ve sıvı formdaki geniş bir organometalik öncül yelpazesi ile çalışabilme kabiliyeti sayesinde, yeni malzemelerin ve ileri nanolaminat yapıların geliştirilmesi için ideal bir platformdur.

Avantajlar

• Esnek süreç entegrasyonu: CVD, ALD, MOCVD, RTP ve RTCVD uygulamaları aynı sistemde.
• Geniş malzeme uyumluluğu: İnce film biriktirme süreçlerinde metal, nitrür ve 2D malzemeler gibi geniş yelpazede depozisyon kabiliyeti.
• Yüksek proses kontrolü: Hassas DLI vaporizasyon ve PID kontrollü parametreler sayesinde tekrar edilebilir sonuçlar.
• Araştırma ve geliştirmeye uygun: R&D merkezleri ve inovatif materyal geliştirme projeleri için optimize edilmiş tasarım.