Annealsys 300 mm RTP System – Geniş Çaplı Rapid Thermal Processing Çözümü

Annealsys 300 mm RTP System (JetFirst 300), 300 mm (12") wafer işleme kapasitesine sahip modern bir Rapid Thermal Processing (RTP) sistemidir. Soğuk duvar (cold wall) proses odası, gelişmiş gaz karışım ve vakum yetenekleri ile yüksek tekrarlanabilirlik ve proses kontrolü sağlar. Bu sistem, hem araştırma-geliştirme laboratuvarları hem de küçük ölçekli üretim uygulamaları için tasarlanmıştır.

Uygulama Alanları

JetFirst 300 ile gerçekleştirilebilecek başlıca termal işlemler:

• Rapid Thermal Annealing (RTA) – Hızlı termal tavlama
• Implant annealing – İyon implant sonrası aktivasyon
• Ohmic kontak tavlama
• Rapid Thermal Oxidation (RTO) – Oksidasyon süreçleri
• Densifikasyon ve kristalizasyon
• Dopant difüzyonu
  … gibi ileri yarı iletken prosesleri.

Teknik Özellikler

• Substrat boyutu: Maksimum 300 mm (12") wafer desteği; 12" oda esas olarak 8" numuneler için optimize edilmiştir.
• Proses odası: Soğuk duvar tasarımı yüksek proses tekrarlanabilirliği sağlar.
• Sıcaklık kontrolü: Pyrometre ve termokupl ile çift sıcaklık ölçüm; güçlü dijital PID kontrolü sayesinde hassas ve tekrarlanabilir termal profiller elde edilir.
• Sıcaklık aralığı: Oda sıcaklığından 1200 °C’ye kadar proses yapabilme yeteneği.
• Isıtma hızı: Maksimum 150 °C/s’ye kadar hızlı ısınma (ankastre ısıtma).
• Vakum ve gaz kontrolleri: Standart gaz karışım ve yüksek vakum kabiliyeti bulunur.

Avantajlar

• Büyük çaplı wafer işleme: 300 mm’a kadar substratlar için optimize edilmiştir.
• Güvenilir proses kontrolü: Pyrometre + termokupl + PID ile hassas sıcaklık yönetimi.
• Çok yönlü uygulama: Tavlama, oksidasyon, dopant difüzyonu ve daha fazlası için uygundur.
• Araştırma ve üretim odaklı: R&D laboratuvarlarından küçük ölçekli üretime kadar geniş kullanım yelpazesi.

Kimler İçin Uygundur?

Annealsys 300 mm RTP System; özellikle:

• Üniversiteler ve AR-GE merkezleri
• Pilot üretim ve küçük ölçekli üretim tesisleri
• Yarı iletken proses geliştirme projeleri

gibi uygulamalar için ideal bir termal işlem çözümüdür.