Annealsys 100mm DLI-CVD & DLI-ALD System – Gelişmiş İnce Film Depozisyon Platformu

Annealsys 100mm DLI-CVD & DLI-ALD System, Direct Liquid Injection (DLI) vaporizasyon teknolojisini temel alan yüksek performanslı bir Chemical Vapor Deposition (CVD) ve Atomic Layer Deposition (ALD) deposizyon sistemidir. Bu sistem, tek proses odasında birden fazla depozisyon tekniğini destekleyerek araştırma ve geliştirme (AR-GE) birimlerinin çok çeşitli malzeme sınıflarını üretmesine imkân tanır.

Uygulama Alanları

Annealsys DLI-CVD & DLI-ALD System aşağıdaki gelişmiş süreçler için güçlü bir performans sağlar:

• DLI-CVD – Kimyasal Buhar Biriktirme
• DLI-ALD – Atomik Katman Biriktirme
• Pulse Pressure CVD
• MOCVD (opsiyonel)
  …ve benzeri ileri malzeme prosesleri, ince film üretimi ve yeni materyal geliştirme çalışmaları.

Sistem, oksitler, metaller, nitrürler, alaşımlar, III-V yarı iletkenler ve 2D malzemeler gibi çok çeşitli malzemelerin depozisyonu için uygundur.

Teknik Özellikler

• Geniş proses kabiliyeti: CVD, ALD ve pulse pressure CVD uygulamaları aynı proses odasında yapılabilir.
• DLI vaporizasyon kontrolü: Direct Liquid Injection (DLI) vaporizatörleri, düşük buhar basınçlı veya seyreltilmiş kimyasal öncüller ile hassas akış kontrolü sağlar.
• Yüksek film kalitesi: By-pass valf ve hızlı buhar akışı switching yapısı, nanolaminat arayüz kontrolü ile yüksek kalitede film biriktirme sağlar.
• Maksimum esneklik: Glove box arayüzü, vakum ve gaz kontrolü gibi opsiyonel modüllerle esnek proses entegrasyonu sunar.
• Otomatik likit panel: Kimyasal tüketimini düşüren optimize edilmiş otomatik sıvı paneli ile düşük sarf malzemesi kullanımı.

Avantajlar

• Çoklu depozisyon yeteneği: Tek bir sistemde CVD ve ALD işlemlerini gerçekleştirebilme imkânı ile AR-GE verimliliği artar.
• Geniş malzeme desteği: Metal, oksit, nitrür ve 2D malzemeler dahil olmak üzere çok geniş bir malzeme yelpazesi için uygundur.
• Hassas proses kontrolü: DLI vaporizatörleri ile kontrollü öncül akışı ve yüksek tekrarlanabilirlik.
• AR-GE odaklı tasarım: Araştırma ve yeni malzeme geliştirme projelerinde kolay konfigüre edilebilir yapı.