Annealsys RTP Furnace – Yüksek Performanslı Rapid Thermal Processing (RTP) Sistemi

Annealsys 6-inch RTP Furnace (AS-Premium), yarı iletken ve bileşik malzeme (compound semiconductor) wafer’larının ısıl işlenmesi için geliştirilmiş gelişmiş bir Rapid Thermal Processing (RTP) platformudur. Sistem, hem araştırma ve geliştirme (R&D) hem de üretim ölçekli uygulamalarda çok yönlü ve yüksek performanslı termal süreçler sağlar.

Uygulama Alanları

Annealsys RTP Furnace aşağıdaki kritik ısıl işlem süreçlerinde güçlü performans gösterir:

• Rapid Thermal Annealing (RTA)
• İyon implant tavlama
• Kontak tavlama (özellikle III-V ve SiC gibi ileri malzemelerde)
• Rapid Thermal Oxidation (RTO)
• Rapid Thermal Nitridation (RTN)
• Piezoelektrik / piroelektrik malzemelerde tavlama
• Getter aktivasyonu
• Rapid Thermal Evaporation (RTE)
• CIGS güneş hücrelerinde selenizasyon
• Sol-gel yoğunlaştırma ve kristalizasyon
  … gibi ileri yarı iletken ve malzeme bilimleri uygulamaları.

Teknik Özellikler – AS-Premium RTP Furnace

• Oksijensiz proses ortamı:
  Loadlock ve turbo pompa konfigürasyonu sayesinde oksijenden arındırılmış bir proses ortamı sağlar. Bu yapı, özellikle silikon smoothening ve oksijene duyarlı prosesler için idealdir.
• Numune / wafer kapasitesi:
  Sistem, 150 mm çapına kadar wafer veya 156 × 156 mm² kare numuneleri işleyebilme kapasitesine sahiptir.
• Esnek sistem mimarisi:
  AS-Premium platformu, müşterinin proses gereksinimlerine göre geniş konfigürasyon seçenekleri sunacak şekilde tasarlanmıştır.
• Isıtma seçenekleri:
  Proses odası, tek taraflı veya çift taraflı lamba ısıtmalı fırın konfigürasyonlarını destekler.
  Tasarım, manuel yükleme imkânı sunmasının yanı sıra cluster tool veya glove box entegrasyonuna (opsiyonel) uygundur.
• Sıcaklık ölçümü & kontrol:
  Pirometre ve termokupl ile sıcaklık kontrolü standart olarak sunulmaktadır.
  Hızlı dijital PID sıcaklık kontrolörü, yüksek sıcaklık tekrarlanabilirliği ve proses stabilitesi sağlar.
• Susceptor seçenekleri:
  Grafit ve silisyum karbür (SiC) kaplı grafit susceptor seçenekleri, özellikle enkapsülasyon gerektiren numune işlemleri için mevcuttur.

Avantajlar

• İleri proses desteği: Geniş uygulama yelpazesi ile araştırma ve üretim süreçlerini tek bir platformda birleştirir.
• Esnek entegrasyon: Robotik, cluster tool veya manuel çalışma modlarına uyum sağlar.
• Güçlü kontrol ve tekrarlanabilirlik: İleri kontrol sistemleri sayesinde hassas ısıl profiller ve yüksek işlem güvenilirliği elde edilir.
• Geniş proses kapsamı: Yarı iletken cihaz geliştirme, bileşik malzeme tavlama, güneş hücreleri ve ileri malzeme bilimleri gibi farklı alanlarda kullanıma uygundur.