Atomfab, yüksek hacimli üretim (HVM) ortamları için özel olarak geliştirilmiş ultra hızlı, düşük hasar sunan bir plazma destekli Atomik Tabaka Biriktirme (ALD) sistemidir.

Genel Bakış

Atomfab, yüksek performans anlayışıyla tasarlanmış ileri bir ALD çözümüdür:

• Hız: Piyasadaki en hızlı remote plasma ALD sistemlerinden biridir — yüksek üretim hızları ve kısa döngü süreleri sağlar.

• Kalite: Film kalitesi yüksek, çok iyi düzeyde kalınlık homojenliği ve düşük alt tabaka hasarı sunar.

• Verim: GaN güç ve RF cihazları gibi gelişmiş uygulamalarda düşük sahip olma maliyeti (CoO) ile yüksek verimlilik hedefler.

Teknik Özellikler & Avantajlar

Atomfab’un sunduğu temel faydalar şunlardır:

• Uzun ömürlü ve güvenilir remote plasma kaynağı ile düşük hasarlı birikim sağlar.

• Yüksek film uniformluğu ve tekrar edilebilirlik ile üretim kalitesini artırır.

• Automasyon ve cluster entegrasyonuna uygun tasarımı sayesinde üretim hattıyla uyumlu yapı.

• GaN HEMT ve RF cihaz üretimi gibi zor proseslerde ideal passivasyon yetenekleri.

Uygulama Alanları

Atomfab ALD, özellikle şu alanlarda güçlü performans gösterir:

• GaN güç elektroniği üretimi

• RF ve yüksek frekanslı cihazlar

• Gelişmiş yarı iletken üretim hatları

• Düşük hasarlı, kontrollü ultra ince film uygulamaları

Bu sistem, üretim ölçeğine uygun HVM çözümleri arayan müşteriler için mükemmel bir çözümdür.

Daha fazla bilgi için tıklayınız.